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中诺新材（北京）科技有限公司拥有强大的售后团队，为您提供完善的售后服务团队。公司专业的技术优势让您的科学研究更有保障！

高纯蒸发料

蒸发作为PVD技术的一种，被广泛应用于半导体行业中的芯片背面金属化工艺，中诺新材（北京）科技有限公司作为专业的PVD薄膜材料供应商，可以提供各种规格的全系列高纯金属蒸发材料。这些材料可做成丝状，片状，颗粒状。适用于钨丝篮加热蒸发，钨舟，钼舟蒸发，各种坩埚蒸发等。

同时，这些材料亦广泛应用于精密合金熔炼、高纯化合物制备以及高品质晶体制备等领域。

贵金属靶材尺寸

金、银、铂、钯溅射靶材通过熔炼提纯、浇铸成锭，锻造轧制和精密机加工制造而成。纯度均可达到99.99%，主要应用于电子半导体、太阳能光伏、平面显示、磁学等行业。

钌、铑、铱溅射靶材采用高纯金属粉末为原料，通过粉末冶金铸锭，并精密机加工成靶，产品纯度可达99.95%。主要应用于电子半导体、磁学等行业。

常规靶材有：

高纯金 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高纯银 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高纯铂 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高纯钯 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高纯钌 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高纯铑 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高纯铱 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

常规厚度1-6mm

可定制加工的圆靶方靶，可提供靶材绑定服务。